ULPA (EN1822)
울파 필터
ULPA Filter
EN1822 U15-U17 등급 기반의 초고성능 필터로, MPPS 기준 초미세 입자 제어가 필요한 환경에 적용됩니다.
ULPA(Ultra-Low Penetration Air) 필터는 HEPA를 넘어선 완벽한 초미세 입자 제어 기술입니다. 반도체, 우주항공 등 극도의 청정 환경이 요구되는 곳에 사용됩니다. 최첨단 여과재와 미니 플리츠 구조를 통해 압력 손실을 최소화하면서 팬 모터의 부하를 줄이고 에너지 효율을 극대화합니다.
0.1μm
입자 크기
99.99%
포집 효율
ISO
국제 인증
Premium Quality
ULPA (EN1822)
Features
울파 필터의 핵심 특징
최첨단 기술과 엄격한 품질 관리로 완벽한 공기 청정 솔루션을 제공합니다.
뛰어난 포집 효율
0.1~0.2μm 크기의 입자에 대해 99.9995% 이상의 포집 효율을 제공하여, HEPA 필터보다 훨씬 높은 청정도를 구현합니다.
초저압손 설계
최첨단 여과재와 미니 플리츠 구조를 통해 압력 손실을 최소화하여 팬 모터의 부하를 줄이고 에너지 효율을 극대화합니다.
무균/무진 환경 필수
반도체 생산의 중요 공정, 초정밀 연구 시설, 무균 상태가 요구되는 제약 공장에 핵심적으로 사용됩니다.
Performance
검증된 성능 데이터
입자 크기별 포집 효율 및 풍량별 압력 손실 데이터를 확인하세요.
입자 크기별 포집 효율
입자 크기에 따른 필터의 포집 효율을 나타냅니다.
풍량별 압력 손실 (Pa)
풍량에 따른 초기 및 말기 압력 손실(Pa)을 나타냅니다.
Specifications
표준 사양
위 표는 표준 사양이며, 모든 규격 및 사이즈는 맞춤 제작이 가능합니다.
| 모델 | 규격 (HxWxD/mm) | 풍량 (CMM) | 효율 | 압력손실 (Pa) 초기 / 말기 |
|---|---|---|---|---|
| MU-F | 610×305×75 | 5 | U15 (≥99.9995% @MPPS) | 249 / 498 Pa |
| MU-F | 610×610×75 | 10 | U15 (≥99.9995% @MPPS) | 249 / 498 Pa |
| MU-F | 610×762×75 | 12 | U15 (≥99.9995% @MPPS) | 249 / 498 Pa |
| MU-F | 610×915×75 | 15 | U15 (≥99.9995% @MPPS) | 249 / 498 Pa |
| MU-F | 610×1220×75 | 20 | U15 (≥99.9995% @MPPS) | 249 / 498 Pa |
| MU-F | 610×305×100 | 5 | U15 (≥99.9995% @MPPS) | 249 / 498 Pa |
| MU-F | 610×610×100 | 10 | U15 (≥99.9995% @MPPS) | 249 / 498 Pa |
| MU-F | 610×762×100 | 12 | U15 (≥99.9995% @MPPS) | 249 / 498 Pa |
| MU-F | 610×915×100 | 15 | U15 (≥99.9995% @MPPS) | 249 / 498 Pa |
| MU-F | 610×1220×100 | 20 | U15 (≥99.9995% @MPPS) | 249 / 498 Pa |
| MU-F | 305×305×75 | 2.5 | U15 (≥99.9995% @MPPS) | 249 / 498 Pa |
| MU-F | 305×610×75 | 5 | U15 (≥99.9995% @MPPS) | 249 / 498 Pa |
| MU-F | 305×610×100 | 5 | U15 (≥99.9995% @MPPS) | 249 / 498 Pa |
| MU-F | 457×610×100 | 7.5 | U15 (≥99.9995% @MPPS) | 249 / 498 Pa |
| MU-F | 610×610×120 | 12 | U16 (≥99.99995% @MPPS) | 280 / 550 Pa |
| MU-F | 610×1220×120 | 24 | U16 (≥99.99995% @MPPS) | 280 / 550 Pa |
Applications
주요 적용 환경
극도의 청정 환경이 요구되는 다양한 산업 분야에 적용됩니다.
반도체 공장
극미세 회로 보호를 위한 Fab 및 Clean Booth
정밀 제조
초정밀 전자 부품, 광학 기기, 우주 항공 분야
특수 실험실
Class 1-1000 등급의 높은 청정도가 필요한 공간
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